Beschreibung
SATEC® T 235
Druckplattenprozessor-Reiniger
Eigenschaften:
- entfernt materialschonend schnell und gründlich hartnäckige Kalk- und Entwicklerrückstände
- enthält Inhaltsstoffe aus nachwachsenden Rohstoffen
- frei von organisch gebundenen Halogenverbindungen (AOX), APEO, EDTA und NT
Einsatzbereiche:
Für Negativ- und Positivplatten-Entwicklungsmaschinen, Röntgen-, Film- und Papierentwicklungsmaschinen. Überall, wo sich durch Einsatz von Entwickler-, Fixier- und Spülbädern eine Schicht aus Kalk-Entwicklerrückständen bildet.
- Reinigung sämtlicher Wasserstationen in Prozessoren/Entwicklungsmaschinen
- Reinigung der Entwicklungssektionen von: CtP-Thermoprozessoren/Analog-Positiv-Prozessoren
- Reinigung von Wassersparanlagen
- Reinigung aller „Edelstahlteile“ von Prozessoren, wie z.B. Sprührohre, Niederhalter etc.
Anwendung und Dosierung:
Teile wie Walzen, Wannen, Rakel, Gummi etc: 5 Minuten vor der Durchlaufreinigung mehrmals mit dem Konzentrat einsprühen oder über Nacht in eine Wanne mit 1:10 verdünntem Produkt einweichen. Mit Schwamm oder Bürste nachwischen und gelöste Rückstände abspülen. SATEC® T 235 in das entleerte Flüssigkeitssystem der Anlage je nach Verschmutzung 1:5 – 1:10 verdünnt einfüllen, auf ca. 40°C aufheizen und 15 – 45 Minuten umpumpen. Anschließend Reinigerlösung ablassen und mit Wasser 2 Spülgänge von 5 – 10 Minuten durchführen. Nach der Restentleerung von Tanks, Filtergehäusen usw. Anlage mit Behandlungspräparaten wiederbefüllen.
